Chip, das Mikroskop TG2U überprüft

 【Einleitung】:
 TG2U Lithographie wird in der Hochintegration, Sensor, Oberflächenwellenteil, magnetische Luftblase, Mikrowelle, CCD und so weiter verwendet.

 【Anmerkung】:
 Parameter der Lithographie TG2U Technical:
 Größe 1.Template:
 a.100×100×2-3mm;
 b.75×75×2-3mm:
 2. Silikongröße: Φ50-Φ75mm, reale Zeile Breite 3-4цm;
 3. Komparativdistanzadresse zwischen Schablone und Silikon:
 a.X、 O ≥±2.5mm;
 b.θ (rotieren), ≥±5°;
 Station 4.support (Silikon) rotieren Z axies: raues justieren360°, Geldstrafe - justieren±5;
 beweglicher Umfang 5.Integrated des Arbeitsplatzes: X、 O integrieren Φ75mm;
 6. der Platz zwischen grundlegender Station der Kugel und Schablone: 0-7mm;
 7. Berührungssystem: GCQ200W über Hochdruckkugel Hektogramm, Berührungswellenlänge: 300~436nm;
 8.engergy ist nicht kleiner als 407nm der Wellenlänge; 7mw/cm;
 9. ungleich ist innerhalb Φ75mm: ±5%:
 10. beleuchtende Wellenlänge: ≈545nm;
 11. Expositionsdauer: O.01 seconds-99.99 Minuten;
 12. der fokussierenumfang binokularen: 13mm;
 13. das laute Summen von binokularem:
 a.-Paarokular: Lachs, 16X;
 b.-flaches Feldlernziel: 6X, 9X, 15X;
 c.-Gesamtlautes summen heraus: 60X-240X;
 . rührender Druck des Vakuum 14: ≥O.7Kgf;
 . 15 Stromversorgung:
 a.frequency: 50HZ (Z);
 b.rotated Inputspannung: 190V-230V;
 c.power Verbrauch: ≤300VA;
 16.Dimension: 1000X850X980mm （2 Kästen）
 17.Weight: ≈200Kg;
 (1) Vakuumzubehör: ≥450mm Hektogramm;
 (2) ist die Einheit der Luftversorgungstabilität unten
 Hinzufügen: Wenn der Benutzer irgendeinen speziellen Antrag hatte, mit uns bitte in Kontakt bringen.